Reactive Ion Etching

Nimi ja malli: Oxford Instruments Plasmalab System 100

Yhteyshenkilö: Pertti Pääkkönen

Valmistusvuosi: 1999

Asennusvuosi: 2004

Laitteen yleiskuvaus: Reactive Ion Etching tool with Inductive Coupled Plasma (ICP) Source.

Käyttö: Etching of micro and nanostructures on quartz and metals.

Tärkeimmät ominaisuudet ja lisävarusteet: Reactive Ion Etching tool with Inductive Coupled Plasma source, helium backside cooling.

Tärkeimmät spesifikaatiot:

Valokuva:

Sijainti:

Kaupunki: Joensu