Metalorganic Vapour Phase Epitaxy (MOVPE)

Nimi ja malli: Thomas Swan CCS MOCVD

Yhteyshenkilö: Markku Sopanen

Valmistusvuosi: 1993 (old), 2003 (new)

Asennusvuosi: 1993 (old), 2003 (new)

Laitteen yleiskuvaus: System for fabricating compound semiconductors, heterostructures and optoelectronic components

Käyttö: Fabrication of GaN and GaAs/InP materials, LEDs, lasers

Tärkeimmät ominaisuudet ja lisävarusteet: Compunds including Ga, In or Al with As, P or Sb can be fabricated with old machine. With the new one coumpounds include Ga, In or Al with N, As or P.

Tärkeimmät spesifikaatiot:

Wafer size                                 new: 3x2 inches, 1x4 inches

                                                     old: 2,5x2,5 cm

Valokuva:

Sijainti: Micronova Nanofabrication Centre - technical area under the cleanroom. Tietotie 3, 02150 Espoo

Kaupunki: Espoo